檢測原理

探傷機陣列渦流檢測原理陣列渦流技術與傳統渦流技術具有相同的檢測將通人交變電流的激勵線圈放置在導電部件一時，導體表面會產生渦流，導體中的缺陷會干擾渦流路徑，這種干擾可以通過檢測線圈來測量，進而判磁粉探傷機

斷出缺陷的情況”。陣列渦流探頭具有多個獨立工作的線圈,這些線圈按照特殊的方式排布，激勵線圈和檢測線圈之間形成兩種方向相互垂直的電磁場傳遞方式，可減少因缺陷方向造成的漏檢,并且可實現一次性大面積掃查,得到C掃描成像結果。為了保

證激勵磁場和感應磁場之間不相互干擾，陣列渦流技術通常采用多路切換技術對感應線圈進行分時分批激勵。陣列渦流檢測的結果通常以C掃描顯示為主,同時生成阻抗圖和帶狀圖,通過不同的顏色顯示來判斷缺陷的情況[3]。

1.2全聚焦相控陣檢測原理 

全聚焦相控陣檢測過程主要包括兩個部分:全

矩陣數據采集(FMC)和全聚焦成像算法。

全矩陣數據采集原理為假定相控陣探頭具有n

個陣元，激發第一個陣 元，所有陣元接收回波信號并

儲存,按照此規律，依次激發所有陣元，最后采集得

到nXn個時域超聲回波信號，因為被采集數據存

儲在一個n行n列的矩陣中，所以稱之為全矩陣數試驗采用64 晶片，頻據采集[4]。

全聚焦成像算法原理為針對所檢區域設定

個自定義成像區,得到任意一- 點到任意一對品片

組合的聲程，再以成像區中的聲程數據為依據，對

FMC數據進行相干疊加處理,獲得表征該點信息

的幅值。采用該算法得到自定義成像區內每點的

成像，最終達到各點能量高度聚焦的效果”。